ニュース解説 窒化物超伝導体を使った量子ビットをシリコン基板上に開発

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Vol.105 No.2 (2022/2) 目次へ

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最近の新聞等で報道された技術情報を深める ニュース解説

◆今月のニュース解説

窒化物超伝導体を使った量子ビットをシリコン基板上に開発

 Development of Nitride Superconducting Qubits on Silicon Substrate

画像に対する質問に世界最高精度で回答できる質問応答技術を開発

 Visual Question Answering Technology Delivers the World’s Highest Accuracy

窒化物超伝導体を使った量子ビットをシリコン基板上に開発

 情報通信研究機構(NICT)は,超伝導量子ビットの心臓部である超伝導体/絶縁膜/超伝導体接合(ジョセフソン接合)に従来のアルミニウム(Al)とアルミニウム酸化膜を使用せず,エピタキシャル成長を用いたシリコン(Si)基板上の窒化物超伝導量子ビットを開発した.この量子ビットは,超伝導体として窒化ニオブ(NbN)を電極材料とし,ジョセフソン接合の絶縁層に窒化アルミニウム(AlN)を使用してエピタキシャル成長させた全窒化物の素子であり,雑音源である非晶質の酸化物を含まない新しい超伝導材料から成る新型量子ビットである(図1).


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