ニュース解説 高低差がナノスケールの極微小な欠陥をワンショットで3D形状に可視化する光学検査技術を開発――独自の光学機器とアルゴリズムで,半導体製造における極微小な欠陥を1枚の撮像画像から瞬時に識別――

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Vol.108 No.8 (2025/8) 目次へ

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◆今月のニュース解説

 高低差がナノスケールの極微小な欠陥をワンショットで3D形状に可視化する光学検査技術を開発

 ――独自の光学機器とアルゴリズムで,半導体製造における極微小な欠陥を1枚の撮像画像から瞬時に識別――

 An Optical Inspection Technology That Visualizes Ultra-fine Defects with Nanoscale Height Differences in Three Dimensions with a Single Shot: Detecting Nanoscale Height Differences Instantly in Semiconductor Manufacturing from a Single Captured Image by Using Unique Optical Equipment and Algorithms

高低差がナノスケールの極微小な欠陥をワンショットで3D形状に可視化する光学検査技術を開発

――独自の光学機器とアルゴリズムで,半導体製造における極微小な欠陥を1枚の撮像画像から瞬時に識別――

 (株)東芝(以下,東芝)と東芝情報システム株式会社(以下,東芝情報システム)は,生産現場での外観検査において,高低差がナノスケール(ナノは10億分の1)の極めて微小な欠陥でも1枚の撮像画像から3D形状に瞬時に可視化する“ワンショットBRDF(Bidirectional Reflectance Distribution Function)光学検査技術”を開発した.本技術は,より高い精度で瞬時に検出することが求められる半導体ウェーハの検査に適しており,その製造工程に導入すれば,検査時間の短縮による生産性の向上や品質の改善,不良品の減少などが期待される.


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